Photoresist Materials| 毕得医药

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按化学元素: B^x; C^x; N^x; O^x; F^x; Si^x; P^x; S^x; Cl^x; Br^x; I^x

结构特征： 光刻胶单体-丙烯酸类 (20) 光刻胶单体-其他类 (2) 光刻胶单体-缩水甘油类 (3) 光酸 (36) 其他光刻胶相关分子 (4)

按纯度： 99+% 99% 98+% 98% 97+% 97% 96+% 96% 95+% 95% 93% 90+% 90%

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Tris(4-(tert-butyl)phenyl)sulfonium 1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutane-1-sulfonate: BD01390395241806-75-798%; ￥8151.005g

(4-(tert-Butyl)phenyl)diphenylsulfonium 1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutane-1-sulfonate: BD01521674258872-05-898%; ￥3121.005g

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